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真空镀膜加工中频磁控溅射

目标源可分为平衡源和非平衡源。平衡靶源的涂层均匀，且非平衡靶源的涂层与基材的附着力强。平衡靶源主要用于半导体光学薄膜，非平衡靶源主要用于装饰膜的佩戴。

无论平衡还是不平衡，新北派瑞林真空镀膜，如果磁铁是静止的，其磁性决定了现有材料的利用率通常小于3。为了提高靶材的利用率，可以采用旋转磁场。然而，旋转磁场需要一个旋转机构，汽车配件派瑞林真空镀膜，并且应降低等待速率。旋转磁场主要用于大型或有价值的目标。如半导体薄膜溅射。对于小型设备和一般工业设备，通常使用磁场静态目标源。

薄膜外表呈现褐色条纹　　原因：　　①真空度低 解决方法：清洗真空室内的送铝、蒸镀设备、冷却系统、放卷、卷取设备及导辊;查看抽真空系统;下降环境湿度。　　②薄膜开释气体。解决方法：薄膜预单调;延伸抽真空时刻。　　③喷铝过多。解决方法：前进车速;下降蒸发舟电流;下降送铝速度。　　④蒸发舟内有杂质。解决方法：清洗蒸发舟及热屏蔽板。　　⑤蒸发舟老化。解决方法：替换蒸发舟。

真空镀膜是一种产生薄膜材料的技术。在真空室内材料的原子从加热源离析出来打到被镀物体的表面上。此项技术用于生产激光唱片(光盘)上的铝镀膜和由掩膜在印刷电路板上镀金属膜。在真空中制备膜层，包括镀制晶态的金属、半导体、绝缘体等单质或化合物膜。虽然化学汽相沉积也采用减压、低压或等离子体等真空手段，塑料派瑞林真空镀膜，但一般真空镀膜是指用物理的方法沉积薄膜。

　真空镀膜表面的清洗非常重要，直接影响电镀产品的质量。在进入镀膜室之前，工件必须在电镀前仔细清洗。表面污染来源于加工、运输和包装过程中粘附在工件上的各种灰尘、润滑油、机油、抛光膏、油脂、汗渍等物质。

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