真空磁控阴极溅射法：平板玻璃在具有高真空的真空腔体内，处在负电压的两极间的工作气体正离子在正交电磁场的作用下飞向阴极，在很短的阴极位降区内获得很大的能量去迅速轰击靶材，从而使阴极(靶材)原子飞向玻璃基片--玻璃沉积膜层，溅射出的二次电子(此过程称γ过程)在电磁场作用下按旋轮线运动参与碰撞电离，蟹衍载流子，这样就能源源不断地轰击阴极，提供足够数量的正离子，形成的等离子区使持续辉光放电，其可以一次完成多层镀膜，有着的膜层均匀性，的边缘复盖和良好的附着力。拉奇纳米真空汽相沉积设备(CVD),以被多数科研单位、研究所、大专院校所采用并发表多项国际学术文章。镀膜有着优于和区别于其它真空磁控溅射镀膜机的地方是：它的平面磁控靶上的磁场是由环形磁铁产生的，可将半园环形磁铁看成是无限T微扇柱状磁铁的组合 。所以，其相应点磁标势较稳定，才能生产出均匀牢固的镀膜层。

Parylene是这些组装方式的防护材料，5微米厚就能耐1000V以上直流击穿电压，因此在微机电系统中，Parylene是一的电介质材料。同时，对传感器的防酸、碱和及对水汽和盐雾等恶劣环境有的阻隔防护能力。  

Parylene活性分子的良好穿透能力在元件内部，底部、周围形成无气隙的防护层。优良的防潮、防化学品和耐溶剂性能优良的介电绝缘性能、微米级的精密制作、极薄的膜层仍具极优的电性能、物理机械性能和防腐蚀功能。

镀材范围广，由于溅射镀膜是通过离子的高速轰击使镀材溅射出来的，当然这个厚度是在可允许的范围内，而且控制好电流，无论重复镀多少次，膜层厚度都不会变化，膜厚的稳定性可归结为膜厚良好的可控性和重复性。塑料基材与真空镀层通常为金属)两者热膨胀系数相差很大，在真空镀膜升温、降温过程中膜层容易，膜层越厚，的可能性越大，因此选用合适的涂层作为过渡层，可以减少内应力的积累和的发生。不像五金电镀加工由于熔点的原因而限制只能使用熔点比较低的镀材，而溅射镀膜固体的物质都可以成为镀材。

高真空离子镀是常见的塑胶产品电镀技术中的目前市场新兴兴起的一种技术。镀膜机真空机械选择了解被抽气体成分，气体中含不含可凝蒸气，有无颗粒灰尘，有无腐蚀性等。高真空离子镀，又称高真空镀膜加工。如今高真空电镀的做法现在是一种相来说比较盛行的一种做法，做出来的商品金属质感强，表面亮度高.而相对别的的镀膜法来说，成本较低，对环境的污染小，可选择原料种类多，这也是近年来一些电镀加工厂比较推崇的镀膜电镀技术。

Parylene特别适合用于铁氧体材料(磁环、磁芯)等电子组件的镀膜，镀膜后的电子组件其涂膜附着力强、耐磨性好、硬度高、抗高电压绝缘性强，漆膜外观细腻均匀、柔滑、触感极 佳。后者是采用化学还原法，必须把膜材配制成溶液，并能迅速参加还原反应，这种镀膜方法不仅薄膜的结合强度差，而且镀膜既不均匀也不易控制，同时还会产生大量的废液，造成严重的污染。耐漆包线的绕线性强，漆膜不裂伤。同时可以增加铁氧体等磁性材料的介电性及耐高压性能，可以克服普通环氧树脂喷涂处理后不耐酸、磨等方面的缺陷。Parylene 涂层能在磁性材料表面形成均匀一致的绝缘防护涂层！