真空镀膜设备应用十分广泛，如今在我们的生活中到处可见，是必不可少的一项技术。但是真空镀膜设备在使用一段时间后，表面就会留下灰尘影响真空镀膜的整体效果。

那么如何处理真空镀膜的灰尘呢？

1、设备使用的源材料要符合必要的纯度要求。

2、设备样品取出后要注意放置环境的清洁问题。

3、真空镀膜一段时间后，真空室内壁必须要清洁处理。

4、真空镀膜清洗衬底材料，必须要做到严格合乎工艺要求。

5、真空镀膜适当的增加环境的湿度，有利于降低周围环境的悬浮固体颗粒物。

6、工作人员在操作时需要戴手套、脚套等，要有专门的服装。

由于灰尘对镀膜效果会产生比较大的影响，因此为了避免在真空镀膜设备中留下灰尘，应该在使用中注意以上几点来尽量避免，除此也要注意经常清洗，避免灰尘越积越多。

而阳光控制膜和低辐射膜正好能弥补了普通玻璃在这一方面的不足。2、规范操作人员及操作要求，包括穿戴专业的服装、手套、脚套等。阳光控制膜可以满足低纬度地区降低室内温度的要求；而低辐射膜则能满足高纬度地区充分接受太阳辐射能量和阻止室内热量外流的要求。 在玻璃上，镀涂一层TiO2就能使其变成防雾、防露和自清洁玻璃。这种工艺在汽车玻璃上有很好的应用。多弧离子镀膜机

镀膜技术在平板显示器中的应用 所有各类平板显示器都要用到各种类型的薄膜，而且几乎所有类型的平板显示器件都需要使用ITO膜，以满足透明电器的要求。可以毫不夸张的说：没有薄膜技术就没有平板显示器件。

蒸发镀膜一般是加热靶材使表面组分以原子团或离子形式被蒸发出来。因此，选用现代化光学镀膜系统的关键取决于对以下因素的认真考虑：对镀膜产品的预期性能，基片的尺寸大小和物理特性以及保证高度一致性工艺所必需的所有技术因素。并且沉降在基片表面，通过成膜过程(散点-岛状结构-迷走结构-层状生长)形成薄膜。 对于溅射类镀膜，可以简单理解为利用电子或高能激光轰击靶材，并使表面组分以原子团或离子形式被溅射出来，并且终沉积在基片表面，经历成膜过程，终形成薄膜。

主要分类有两个大种类: 蒸发沉积镀膜和溅射沉积镀膜，具体则包括很多种类，包括真空离子蒸发，磁控溅射，MBE分子束外延，溶胶凝胶法等等 。

真空镀膜主要指一类需要在较高真空度下进行的镀膜。但是真空镀膜设备在使用一段时间后，表面就会留下灰尘影响真空镀膜的整体效果。真空镀膜设备若有灰尘，将会影响真空镀膜的效果和质量。真空镀膜设备真空热处理是指金属制件在真空或先抽真空后通惰性气体条件下加热，然后在油或气体中淬火冷却的技术。由于真空热处理时，工件基本不氧化，钢件不脱碳，采用通气对流加热方式还可使加热均匀，减少表面和心部的温差，从而也减少畸变。目前它已成为工模具不可或缺和的热处理工艺。

  在真空条件下加热工件，主要依赖辐射。由于辐射传热与温度的4次方成比例，所以在850℃以下辐射效果不高，工件加热速度很慢