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纳米镀膜
五金Parylene Parylene 拉奇纳米镀膜设备






       镀膜方法可以分为气相生成法,氧化法,离子注入法,扩散法,电镀法,显示屏Parylene,涂布法,液相生长法等。气相生成法又可分为物理气相沉积法,硅胶Parylene,化学气相沉积法和放电聚合法等。真空蒸发,溅射镀膜和离子镀等通常称为物理气相沉积法,是基本的薄膜制备技术。它们都要求淀积薄膜的空间要有一定的真空度。所以,真空技术是薄膜制作技术的基础,获得并保持所需的真空环境,是镀膜的必要条件。





真空镀膜加工的基本技能要求

9、真空室接不同电位的各部分间的绝缘电阻值的巨细,Parylene,均按GB/T11164-1999中的4.4.6

10、其他注意事项

1)环境温度:10-30oC  2)相对湿度:不大于75%   3)冷却水进水温度:不高于25oC   4)冷却水质:城市自来水或相当质量的水。   5)供电电源:380V三相50Hz或220V单相50Hz(由所用电器需求而定);电压波动范围:342-399V或198-231V;频率波动范围:49-51Hz。  6)设备所需的压缩空气,液氮,冷水、热水等的压力、温度,消耗量等,均应在产品运用说明书中写明。  7)设备周围环境整齐,空气清洁,不应有引起电器及其他金属件表面腐蚀或引起金属间导电的尘埃或气体存在。



真空镀膜加工是指在高真空的条件下加热金属或非金属材料,五金Parylene,使其蒸发并凝结于镀件(金属、半导体或绝缘体)表面而形成薄膜的一种方法。例如,真空镀铝、真空镀铬等。

光的干涉在薄膜光学中广泛应用。光学薄膜技术的普遍方法是借助真空溅射的方式在玻璃基板上涂镀薄膜,一般用来控制基板对入射光束的反射率和透过率,以满足不同的需要。为了消除光学零件表面的反射损失,提高成像质量,涂镀一层或多层透明介质膜,称为增透膜或减反射膜。





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