真空镀膜设备应用十分广泛，如今在我们的生活中到处可见，是必不可少的一项技术。但是真空镀膜设备在使用一段时间后，表面就会留下灰尘影响真空镀膜的整体效果。

那么如何处理真空镀膜的灰尘呢？

1、设备使用的源材料要符合必要的纯度要求。

2、设备样品取出后要注意放置环境的清洁问题。

3、真空镀膜一段时间后，真空室内壁必须要清洁处理。

4、真空镀膜清洗衬底材料，必须要做到严格合乎工艺要求。

5、真空镀膜适当的增加环境的湿度，有利于降低周围环境的悬浮固体颗粒物。

6、工作人员在操作时需要戴手套、脚套等，要有专门的服装。

由于灰尘对镀膜效果会产生比较大的影响，因此为了避免在真空镀膜设备中留下灰尘，应该在使用中注意以上几点来尽量避免，除此也要注意经常清洗，避免灰尘越积越多。

镀膜技术在光学仪器中的应用

      人们熟悉的光学仪器有望远镜、显微镜、照相机、测距仪，以及日常生活用品中的镜子、眼镜、放大镜等，它们都离不开镀膜技术，镀制的薄膜有反射膜、增透膜和吸收膜等几种。

   

1. 真空

在空间内，低于环境大气压力的气体状态。

2. 真空度

表示真空状态下气体的稀薄程度，通常用压力值来表示。

3. 真空区域划分

低真空 105Pa-102Pa

中真空 102Pa-10-1Pa

高真空 10-1Pa-10-5Pa

超高真空 10-5Pa-10-9Pa

极高真空 <10-9Pa

4. 全压力

混合气体中所有组分压力的综合。

蒸发式真空镀膜机的工作原理：通过加热蒸发某种物质使其沉积在固体表面，称为蒸发镀膜。这种方法早由M.法拉第于1857年提出，现代已成为常用镀膜技术之知一。 蒸发物质如金属、化合物等置于坩埚内或挂在热丝上作为蒸发源，待镀工件，如金属、陶瓷、塑料等基片置于坩埚前方。待系统抽至高真空后，加热坩埚使其中的物质蒸发。蒸发物质的原子或分子道以冷凝方式沉积在基片表面。薄膜厚度可由数百埃至数微米。膜厚决定于蒸发专源的蒸发速率和时间（或决定于装料量），并与源和基片的距离有关。对于大面积镀膜，常采用旋转基片或多蒸发源的方式以保证膜层厚度的均匀性。从蒸发源到基片的属距离应小于蒸气分子在残余气体中的平均自由程，以免蒸气分子与残气分子碰撞引起化学作用。蒸气分子平均动能约为0.1～0.2电子伏。镀膜技术在太阳能利用方面的应用当需要有效地利用太阳热能时，就要考虑采用对太阳光线吸收较多、而对热辐射等所引起的损耗较小的吸收面。简言之，蒸发式真空镀膜机的工作原理就是真空室内利用电阻加热法，把紧紧贴在电阻丝上面的金属丝熔融汽化，汽化了的金属分子沉积于基片上，而获得光滑反射率的膜层，达到装饰美化物品表面的目的。

真空镀膜机-操作步骤

一、电控柜的操作;

开维持泵、真空计电源，真空计档位置V1位置，等待其值小于10后，再进入下一步操作。约需5分钟。 开机械泵、予抽，开涡轮分子泵电源、启动，真空计开关换到V2位置，抽到小于2为止，约需20分钟。

观察涡轮分子泵读数到达250以后，关予抽，开前机和高阀继续抽真空，抽真空到达一定程度后才能开右边的高真空表头，观察真空度。真空到达2×10-3以后才能开电子枪电源。